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直讀光譜儀的MC裝置含義
發布時間：2020-04-30 08:47:45 點擊：4600
光譜儀的測量和控制組合在一個裝置內，簡稱MC。測量和控制單元是光電直讀光譜儀的一個重要部件。在樣品分析之前，由操作程序編制合金分析文件，并選好分析參數。
樣品分析過程中，由MC裝置控制整個測量過程的動作、順序和時間。由上位計算機和MC裝置之間進行數據交換和處理，并在屏幕上顯示出本次的分析結果。因此，我們稱MC裝置是光譜儀和上位計算機之間連接的橋梁。本章重點介紹光譜儀光電流轉換的測量以及數字化處理技術。MC裝置在火花直讀光譜儀中完成的主要功能如下:
直讀光譜儀的MC裝置含義
(1)控制火花光源激發樣品，并產生各個元素的特征譜線。(當采用雙樣品架)可選擇樣品架和光源的操作參數。光源操作參數有3個: .
1)氬氣沖洗(沖洗時間由操作參數設置)。清洗樣品表面并在燃燒腔內形成控制氣氛。
2)預燃(預燃時間由操作參數設置)。此階段產生大電流易于樣品表面蒸發，以減少材質差異，提高- - 致性，并將難激發的樣品進行預處理。
3)曝光階段(曝光時間由操作參數設置)?；鸹ü庠从梅€定的小電流將蒸發出來的元素原子激發，使其產生特征光譜，這一階段也稱測量階段。MC內單板計算機對PMT的光電流采集和數字化處理，并傳送到上位計算機。
(2)在樣品激發前和激發時控制光譜儀操作順序。
(3)模/數轉換，輸送已數字化的信號到上位計算機。
(4)對PMT(光電倍增管)提供可調整的高壓供電，PMT輸出光電流的測量、存儲和數字化處理。MC裝置輸入220VAC或選用110VAC。
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